二氯氢硅 (SiH2Cl2)
二氯氢硅在半导体制造工艺中用于沉积形成氮化硅膜(SixNy)
- INDIVIDUAL
SPECIFICATION
Unit : ppmvSiH2Cl2 | O2+Ar | N2 | CO | CO2 | CH4 | H2 | SiH3Cl | SiHCl3 | SiCl4 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
99.9% | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 10.0 | 100 | 100 | 100 |
SiH2Cl2 | 99.9% | |
---|---|---|
O2+Ar | 1.0 | |
N2 | 1.0 | |
CO | 1.0 | |
CO2 | 1.0 | |
CH4 | 1.0 | |
H2 | 10.0 | |
SiH3Cl | 100 | |
SiHCl3 | 100 | |
SiCl4 | 100 |
CYLINDERS INFORMATION
TYPE | MATERIAL | FILLING WEIGHT | VALVE CONNECTION TYPE |
---|---|---|---|
40L | SUS 316L | 35~40 kg | JIS 22L, CGA/DISS636 etc. |
10L | 8.5~10kg |
TYPE | 40L |
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MATERIAL | SUS 316L |
FILLING WEIGHT | 35~40 kg |
VALVE CONNECTION TYPE | JIS 22L, DISS 636 etc. |
TYPE | 10L |
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MATERIAL | SUS 316L |
FILLING WEIGHT | 8.5~10 kg |
VALVE CONNECTION TYPE | JIS 22L, DISS 636 etc. |