沉积气体
通过持续研发和积极开展市场战略, SK specialty生产和销售半导体及显示器制造工艺的核心材料—各种沉积气体。
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六氟化钨WF6view more
Global No. 1 六氟化钨 (WF6) 在半导体工艺中用于生成Metal Contact(金属接点)及Gate(閘)。
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甲硅烷SiH4view more
生产销售韩国首款&
唯一的甲硅烷产品 甲硅烷在半导体及显示器工艺中
用于形成硅绝缘膜, 硅防反射膜。 -
乙硅烷Si2H6view more
乙硅烷用于半导体微细化工程, 在沉积形成薄膜时, 可在低温中快速形成均匀的薄膜。
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二氯氢硅SiH2Cl2view more
二氯氢硅在半导体制造工艺中
用于沉积形成氮化膜(SixNy)。 -
氯硅烷SiH3Clview more
氯硅烷用于半导体及显示的制造工艺, 是一种前驱体的原材料。
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三甲基硅烷(3MS, SiH(CH3)3)view more
制备半导体金属布线之间的层
间平坦化绝缘膜（SiO2）以及实施缝隙填充工艺时使用的沉积气体。
- 六氟化钨
WF6 - Global No. 1 六氟化钨 (WF6) 在半导体工艺中用于生成Metal Contact(金属接点)及Gate(閘)。
- 甲硅烷
SiH4 - 生产销售韩国首款&唯一的甲硅烷产品 甲硅烷在半导体及显示器工艺中用于形成硅绝缘膜, 硅防反射膜。
- 乙硅烷
Si2H6 - 乙硅烷用于半导体微细化工程, 在沉积形成薄膜时, 可在低温中快速形成均匀的薄膜。
- 二氯氢硅
SiH2Cl2 - 二氯氢硅在半导体制造工艺中用于沉积形成氮化膜(SixNy)。
- 氯硅烷
SiH3Cl - 氯硅烷用于半导体及显示的制造工艺, 是一种前驱体的原材料。
- 三甲基硅烷
SiH(CH3)3 - 制备半导体金属布线之间的层间平坦化绝缘膜（SiO2）以及实施缝隙填充工艺时使用的沉积气体。
