其他高纯气体

为迎合半导体领域3D NAND及微细加工技术的发展趋势, SK specialty不仅制造生产需求较高的高附加值产品, 还向客户公司提供采购, 提纯, 混配等配套服务

SK materials
  • 氦He

    氦是一种典型的非活性气体, 在气体产业工业环
    节中不可或缺, 被广泛使用在
    Carrier Gas, Purge Gas, Cooling和 Leak Check 惰性气保护等各种领域。

  • 氪Kr

    作为一种动力气体(momentum gas), 用于半导体3D NAND的深孔蚀刻。

  • 氙Xe

    用于半导体制造过程中的蚀刻（Etching）工艺，它是大气中含
    量很低的微量元素，也是一种被分类为稀
    有气体的惰性气体。

  • 四氯化硅STC, SiCl4

    用于清除反应室内残
    留的氟以及蚀刻工艺，是制造二氧化硅的原料。

  • 四氟化硅SiF4

    用于半导体等离子蚀刻
    以及离子注入工艺的气体。

  • 磷化氢PH3

    用于半导体离子注
    入工艺的气体。

  • 砷化氢AsH3

    用于半导体离子注
    入工艺的气体。